トレーニング項目概要はこちら
| code | ARM200F-W | ARM200F-S | 2100plus | 2000EXII | 002B | 区分 | 項目 | トレーニング用試料 | 内容 | 詳細 | 備考 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| B-1-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 基本 | 手続き | – | 利用者登録 | 装置毎の利用希望形態調査 | |
| B-1-2 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 予約システム（サインアップ） | 予約システムのアカウント作成 | ||||
| B-1-3 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 予約システム（利用申請） | 利用申請・財源登録 | ||||
| B-1-4 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 予約システム（使用予約） | マシンタイム予約・支援依頼について | ||||
| B-1-5 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 費用 | 利用料金・技術支援料等について | ||||
| B-1-6 | ● | ● | ● | ● | ● | ファイルサーバ（サインアップ） | データ取り出し用NASユーザー作成と使用方法 | ||||
| B-2-1 | ● | ● | ● | ● | ● | 安全：電離放射線 | 教育訓練 | 放射線発生装置である電子顕微鏡を安全に取り扱うための教育訓練。（推奨） | 所属部局の教育訓練を受講してください | ||
| B-3-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ● | ● | 安全：高圧ガス | 教育訓練 | 試料室のリークやプラズマクリーナーで使用する高圧ガスを安全に取り扱うための教育訓練。 | 所属部局の教育訓練を受講してください | ||
| B-4-1 | ◎ | ◎ | ● | ● | ◎ | 安全：寒剤 | 教育訓練 | 試料汚染防止装置（ACD)・EDS検出器で使用する液体窒素を安全に取り扱うための教育訓練。 | 所属部局の教育訓練を受講してください | ||
| B-5-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 共通 | 設備：装置概要 | 設置室 | 当該装置、周辺機器、設置場所を確認。 | ||
| B-5-2 | 本体 | 本体の構成要素（鏡筒（照射系・対物レンズ・結像系）・検出器・試料室・制御PC・電源・真空系・冷却系等） | |||||||||
| B-5-3 | 周辺機器 | ホルダステーション・プラズマクリーナー・ガス警報器・空気清浄機・除湿機・エアコン・輻射パネル・磁場キャンセラー・アクティブ除震等 | |||||||||
| C-2-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 試料交換 | 任意（標準試料） | 試料着脱 | 試料ホルダ（２軸傾斜ホルダ）の取扱い。 精密ピンセット・真空ピンセット・TEMグリッドの取扱い。 | 最も故障やトラブルの多いポイント | |
| C-2-2 | ホルダクリーニング | イオンクリーナー・プラズマクリーナーの取扱い | |||||||||
| C-2-3 | ホルダ挿抜 | ホルダ状態確認・ステージ初期化・インギャップ絞り引抜・ホルダ挿入・ホルダ引抜 | 試料室・予備排気について理解する。 | ||||||||
| C-3a-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 共通：開始・中断・終了 | 開始前確認 | モニタOn,真空度・高圧・エミッション・ステージ・附帯装置確認 | |||
| C-3a-2 | 終了前確認 | モニタOFF,真空度・高圧・エミッション・ステージ・附帯装置確認 | |||||||||
| C-3a-3 | 中断 | エミッションOFF/ビームバルブ閉 | |||||||||
| C-3a-4 | データ取出 | NAS保存・データ取出用PC保存 | |||||||||
| C-3a-5 | ログ記録 | 予約システムの設備ページ | |||||||||
| C-3b-1 | ● | ● | ◎ | ● | ● | 共通：加速電圧 | 昇圧（加速電圧ON） | 停止若しくはスタンバイ状態から使用加速電圧に昇圧。 アライメントファイル読込 | |||
| C-3b-2 | 降圧（加速電圧OFF） | 加速電圧OFF/スタンバイ | |||||||||
| C-3c-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 共通：エミッション | エミッションOn | 加速電圧確認・暗電流確認・（フラッシング）・エミッションOn | |||
| C-3c-2 | エミッションOff | （ビームバルブ閉）・エミッションOFF・暗電流確認 | |||||||||
| C-3d-1 | ◎ | ◎ | ● | ※ | – | 共通：ACD | LN2補給 | ヒーター取り外し・寒剤汲み出し・寒剤補給 | |||
| C-3d-2 | ACDヒート | ヒーター取付・ACDヒート開始 | |||||||||
| TEM-1-1 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | TEM | TEM基礎 | マイクログリッド・支持膜（Au微粒子） | TEMでサンプルを見て状態確認。簡易的に写真も取る。 | アライメントファイル読み込み | |
| TEM-1-2 | モード選択 | ||||||||||
| TEM-1-3 | ビーム出し | ||||||||||
| TEM-1-4 | ビーム探し | ||||||||||
| TEM-1-5 | 倍率変更 | ||||||||||
| TEM-1-6 | 高さ調整 | ||||||||||
| TEM-1-7 | 照射系調整（スポットサイズ・コンデンサ絞り・ブライトネス・センタリング） | ||||||||||
| TEM-1-8 | 試料移動 | ||||||||||
| TEM-1-9 | 電圧軸合せ | ||||||||||
| TEM-1-10 | 非点補正 | ||||||||||
| TEM-1-11 | フォーカス合わせ | ||||||||||
| TEM-1-12 | ハイコントラスト絞り | ||||||||||
| TEM-1-13 | 像観察（カメラ） | ||||||||||
| TEM-1-14 | 像撮影 | ||||||||||
| TEM-2-1 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | DIFF:基礎 | 単結晶（Si基板） | 制限視野電子回折・回折パターン撮影 | 制限視野絞り挿入 | ||
| TEM-2-2 | モード選択（DIFF) | ||||||||||
| TEM-2-3 | カメラ長選択 | ||||||||||
| TEM-2-4 | スポットセンタリング | ||||||||||
| TEM-2-5 | DIFFフォーカス（簡易） | ||||||||||
| TEM-2-6 | DIFFフォーカス（平行照射） | ||||||||||
| TEM-2-7 | DIFF観察（カメラ） | ||||||||||
| TEM-2-8 | DIFF撮影 | ||||||||||
| TEM-3-1 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | DIFF：方位微調整 | 単結晶基板の晶帯軸入射・2波励起（最も近い方位のみ） | 晶帯軸（スポット) | |||
| TEM-3-2 | 晶帯軸（菊池線) | ||||||||||
| TEM-3-3 | 2波 | ||||||||||
| TEM-4-1 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | DIFF方位出し（易） | 方位出し（単結晶・粗大粒） | シミュレーション | |||
| TEM-4-2 | 試料傾斜 | ||||||||||
| TEM-5-1 | △ | △ | △ | △ | △ | DIFF：方位出し（並） | 多結晶（Au蒸着膜） | 方位出し（多結晶） | 試料傾斜（DIFFモード） | ||
| TEM-5-2 | 試料傾斜（像モード） | ||||||||||
| TEM-6-1 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | TEM:BF・軸外DF | TEM（明視野法） | SAD表示 | |||
| TEM-6-2 | 対物絞り挿入 | ||||||||||
| TEM-6-3 | BF像表示 | ||||||||||
| TEM-6-4 | TEM（暗視野（軸外）） | 軸外DF像表示 | |||||||||
| TEM-7-1 | △ | △ | △ | △ | △ | TEM:DF（軸上） | TEM（暗視野法） | SAD表示 | |||
| TEM-7-2 | スポット選択 | ||||||||||
| TEM-7-3 | 対物絞り挿入 | ||||||||||
| TEM-7-4 | DF像表示 | ||||||||||
| TEM-7-5 | 暗視野撮影（画像積算・長時間露光） | ||||||||||
| TEM-8-1 | △ | △ | △ | △ | △ | TEM:HREM | 単結晶（Si基板） | TEM（高分解能法） | 視野選択 | ||
| TEM-8-2 | 方位合わせ | ||||||||||
| TEM-8-3 | 電圧軸合せ | ||||||||||
| TEM-8-4 | 平行照射/明るさ設定 | ||||||||||
| TEM-8-5 | 非点補正 | ||||||||||
| TEM-8-6 | フォーカス合わせ | ||||||||||
| TEM-8-7 | 高分解能像撮影（through-focus） | ||||||||||
| TEM-9a-1 | ▲ | ▲ | ▲ | ▲ | ▲ | DIFF:NBD | 多結晶 | TEM（NBD） | 視野選択 | ||
| TEM-9b-1 | ▲ | ▲ | ▲ | ▲ | ▲ | DIFF:CBD | 単結晶 | TEM（CBD） | 視野選択 | ||
| TEM-10-1 | ※ | – | – | – | – | TEMコレクタ調整 | 支持膜 | TEMコレクタ調整 | |||
| STEM-1-1 | ○ | ○ | ○ | – | ○ | STEM | STEM基礎 | Au微粒子 | 設定読込・検出器選択・カメラ長選択・絞り選択・像表示・BF/ADF・中低倍・像記録 | モード変更 | |
| STEM-1-2 | アライメントファイル読み込み | ||||||||||
| STEM-1-3 | カメラ長選択 | ||||||||||
| STEM-1-4 | ビーム調整（簡易） | ||||||||||
| STEM-1-5 | コンデンサ絞り選択 | ||||||||||
| STEM-1-6 | 検出器選択 | ||||||||||
| STEM-1-7 | 像表示 | ||||||||||
| STEM-1-8 | スキャンローテーション | ||||||||||
| STEM-1-9 | 高さ調整 | ||||||||||
| STEM-1-10 | フォーカス・非点合わせ | ||||||||||
| STEM-1-11 | 像記録 | ||||||||||
| STEM-2-1 | △ | △ | – | – | – | STEM（高分解能） | 単結晶（Si基板） | STEM（高倍・含ロンチグラム調整） | 視野選択（TEM） | ||
| STEM-2-2 | 方位合わせ（TEM) | ||||||||||
| STEM-2-3 | モード変更 | ||||||||||
| STEM-2-4 | ロンチグラム表示（US） | ||||||||||
| STEM-2-5 | 方位合わせ | ||||||||||
| STEM-2-6 | 高さ合わせ | ||||||||||
| STEM-2-7 | コマ・非点合わせ | ||||||||||
| STEM-2-8 | コンデンサ絞り選択1 | ||||||||||
| STEM-2-9 | ロンチグラム表示（Orius） | ||||||||||
| STEM-2-10 | プローブサイズ選択 | ||||||||||
| STEM-2-11 | カメラ長選択 | ||||||||||
| STEM-2-12 | コンデンサ絞り選択2 | ||||||||||
| STEM-2-13 | 検出器選択 | ||||||||||
| STEM-2-14 | 像表示 | ||||||||||
| STEM-2-15 | スキャンローテーション | ||||||||||
| STEM-2-16 | フォーカス・非点合わせ（コレクタ） | ||||||||||
| STEM-2-17 | フォーカス・非点合わせ（高精度） | ||||||||||
| STEM-2-18 | 像記録 | ||||||||||
| STEM-3-1 | ○ | ○ | △ | – | △ | STEM-EDS | 積層膜 | 点分析・線分析・マッピング | 視野選択（STEM） | ||
| STEM-3-2 | プローブ調整 | ||||||||||
| STEM-3-3 | 傾斜調整 | ||||||||||
| STEM-3-4 | EDS-画像取得 | ||||||||||
| STEM-3-5 | EDS-スペクトル取得 | ||||||||||
| STEM-3-6 | EDS-点分析・連続点分析 | ||||||||||
| STEM-3-7 | EDS-マッピング | ||||||||||
| STEM-3-8 | EDS-解析 | ||||||||||
| STEM-4-1 | ▲ | ▲ | – | – | – | STEM-EELS | 単結晶 | STEM-EELS | 視野選択（STEM） | ||
| STEM-5-10 | ※ | ※ | – | – | – | STEMコレクタ調整 | Au微粒子 | STEMコレクタ調整 |
凡例
◎ 必須 ● 推奨 ○ 選択（初級者向け） △ 選択（中級者向け） ▲ 選択（上級者向け） ★ 特殊 ※ 管理者向け – 設定無し
